來自產(chǎn)業(yè)鏈的消息人士手機晶片達(dá)人的消息稱，由于先進(jìn)制程產(chǎn)能利用率開始下滑，而且評估之后下滑時間會持續(xù)一段周期，臺積電計劃從年底開始，將部分EUV 設(shè)備關(guān)機，以節(jié)省EUV設(shè)備巨大的耗電支出。
據(jù)了解臺積電目前擁有大約80臺EUV光刻機，主要用于7nm、5nm及以下的先進(jìn)工藝，今年9月份還會量產(chǎn)3nm工藝，都需要EUV光刻機，然而隨著PC、手機、顯卡等產(chǎn)品的需求下滑，先進(jìn)工藝生產(chǎn)的芯片勢必會受到影響。
蘋果今年的iPhone 14 Pro系列的A16處理器也沒有急著上3nm工藝，還在用4nm工藝，此外蘋果還因為3nm能效問題，取消了初代3nm生產(chǎn)芯片的計劃。
相比之前的DUV光刻機，EUV光刻機需要使用高能激光器，而且光線會多次折射導(dǎo)致?lián)p耗極大，早期效率只有0.02%，現(xiàn)在量產(chǎn)的說是可以達(dá)到2%效率，但也意味著絕大多數(shù)電力都要消耗掉。
EUV光刻機生產(chǎn)一天需要3萬度電左右，一年耗電大約1000萬度，是十足的電老虎。
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